Un ex científico de ASML ayuda a China a desarrollar una fuente de luz EUV clave

China vuelve a acercarse al desarrollo de sus propias máquinas avanzadas para fabricar chips. Un equipo de investigación dirigido por Lin Nan, antiguo científico de ASML, ha logrado avances en una fuente de luz EUV, un componente clave para producir los semiconductores más avanzados.

El avance es relevante para China, que busca reducir su dependencia de la tecnología occidental de semiconductores. Aun así, la distancia con ASML sigue siendo considerable. El fabricante neerlandés de equipos para chips cuenta con sistemas mucho más potentes y mantiene todavía una ventaja tecnológica de varios años.

China avanza en una fuente de luz clave

Los chips modernos se fabrican grabando patrones extremadamente pequeños sobre una oblea de silicio. Para ello, ASML utiliza las llamadas máquinas EUV. EUV son las siglas de luz ultravioleta extrema, una tecnología que permite crear detalles mucho más pequeños que los métodos anteriores.

Los investigadores chinos ya desarrollaron el año pasado una fuente experimental de luz EUV con una eficiencia de conversión del 3,42%. Esto significa que el 3,42% de la energía del láser utilizado se transforma en luz EUV aprovechable.

Para una instalación de investigación, se trata de un resultado sólido. Incluso supera los registros previos de varios centros de investigación occidentales. Sin embargo, los sistemas comerciales de ASML alcanzan desde hace años eficiencias de conversión considerablemente superiores. Además, generan mucha más luz.

Se estima que el sistema chino produce entre 100 y 150 vatios. Las máquinas EUV comerciales más avanzadas generan alrededor de 600 vatios. La diferencia es importante, porque una fuente de luz más potente permite a una fábrica producir más chips en el mismo tiempo. ASML prevé entregar este año unas sesenta máquinas EUV y trabaja, además, en fuentes de luz aún más potentes, de 1.000 vatios.

ASML mantiene por ahora una amplia ventaja

Lin Nan trabajó anteriormente en ASML en Países Bajos, donde participó en el desarrollo de fuentes de luz para equipos de medición. Esa experiencia desempeña ahora un papel relevante en el programa de investigación chino.

Con todo, una máquina EUV es mucho más que una fuente de luz potente. También requiere espejos de altísima precisión, sistemas avanzados de movimiento y software complejo. Todos estos elementos deben funcionar juntos casi sin margen de error a una escala de apenas unos nanómetros.

Según Reuters, China ya dispone de un prototipo funcional capaz de generar luz EUV. Sin embargo, la máquina todavía no puede producir chips utilizables. Los sistemas ópticos, que ASML desarrolla junto con la alemana Zeiss, siguen siendo uno de los mayores retos técnicos.

China se acerca así a una parte importante de la tecnología de ASML, pero aún no cuenta con una máquina de fabricación de chips equivalente. Los investigadores chinos aspiran a obtener los primeros chips funcionales en 2028. Los expertos, no obstante, consideran que 2030 es un calendario más realista.